Publication detail

Possibilities and limitations of imaging spectroscopic reflectometry in optical characterization of thin films

OHLÍDAL, M. OHLÍDAL, I. NEČAS, D. VODÁK, J. FRANTA, D. NÁDASKÝ, P. VIŽĎA, F.

Czech title

Možnosti a omezení zobrazovací spektroskopické reflektometrie k charakterizaci tenkých vrstev

English title

Possibilities and limitations of imaging spectroscopic reflectometry in optical characterization of thin films

Type

conference paper

Language

en

Original abstract

Imaging spectroscopic reflectometry (ISR) provides methods enabling us to perform an optical characterization of thin films non-uniform in optical parameters (e.g. in thickness). It measures spectral dependencies of a local reflectance at normal incidence of light belonging to small areas on these films (37x37 µm^2 in our case) imaged onto individual pixels of a CCD camera serving as a detector of a spectrophotometer. The local reflectance can mostly be expressed using formulas corresponding to a uniform thin film. There are three methods for treating ISR experimental data in the special case of thickness non-uniformity, i.e. in the case of the same optical constants along the whole area of the film: i) If optical constants of the non-uniform film are known, spectral dependencies of the local reflectance are used to determine a map of the local film thickness (one pixel method). ii) If optical constants are unknown, spectral dependencies of these constants are determined using standard spectroscopic ellipsometry and reflectometry under taking into account postulated non-uniformity in thickness (e.g. wedge-shaped non-uniformity) and a suitable dispersion model for optical constants. Then local reflectances are again utilized for determining the local thickness map (the combined method of the onepixel ISR method and the standard methods). Note that the spectra of the local reflectance can also be used for the determination of the map of roughness rms values together with the map of the local thickness if the rough non-uniform thin film is characterized by this combined method. iii) If the situation concerning the optical constants is the same as in ii) one can utilize a simultaneous treatment of the experimental data measured by all the individual CCD pixels without using auxiliary methods. This multi-pixel method enables us to determine simultaneously the spectral dependencies of optical constants and the map of local thickness if a suitable dispersion model of the film is employed. In this contribution examples of the optical characterization of thin films non-uniform in thickness corresponding to all cases i)-iii) will be presented.

Czech abstract

Zobrazovací spektroskopická eflektometrie (ZSR) umožňuje charakterizaci charakterizaci optických parametrů tenkých vrstev (např. tloušťka). Měří spektrální závislosti lokální odrazivosti při kolmém dopadu malých plošek na vrstvách (v našem případě 37x37 µm^2) zobrazených na jednotlivé pixely CCD kamery sloužícví jako detektor spektrofotometru. Lokální odrazivost lze většinou vyjádřit použitím rovnic připadajících uniformním vrstvám. Existují tři metody zpracování dat získaných ZSR pro spoeciální případ neuniformity v tloušťce, tedy v případě stejných optických konstant podél povrchu vzorku: i) V případě známých optických konstant lokální odrazivost je použita k vytvoření mapy tloušťky vrstvyx (jednopixelová metoda). ii) Jsou-li optické konstanty neznámé, spektrální závislosti jsou určeny použitím konvenční spektroskopické elipsometrie a spektrální reflektometrie se započítáním neuniformity vzorku v tloušťce (t.j. klínová neuniformita v tloušťce) a použije se vhodný disperzní model pro určení optických konstant. Lokální odrazivost z ZSR je pak použita opět k vytvoření mapy tloušťky tenké vrstvy (kombinovasná metoda jednopixelové ZSR a standardních metod). Lze podoktnout, že v tomto případě lze lokáýlní odrazivosti použít také k určení drsnosti povrchu tenké vrstvy spolu s určením tloušťky. iii) Při stejné situaci s optickými konstantami jako v ii) je možné použít souběžné zpracování všech experimentálních dat ZSR získaných pixely měřicí CCD kamery bez využití dalších metod. Tato multipixelová metoda nám umožňuje určit zároveň spektrální závislosti optických konstant a mapy tloušťky tenké vrstvy pokud se použije vhodného disperzního modelu. V tomto příspěvku příklady všech případů i)-iii) budou prezentovány.

English abstract

Imaging spectroscopic reflectometry (ISR) provides methods enabling us to perform an optical characterization of thin films non-uniform in optical parameters (e.g. in thickness). It measures spectral dependencies of a local reflectance at normal incidence of light belonging to small areas on these films (37x37 µm^2 in our case) imaged onto individual pixels of a CCD camera serving as a detector of a spectrophotometer. The local reflectance can mostly be expressed using formulas corresponding to a uniform thin film. There are three methods for treating ISR experimental data in the special case of thickness non-uniformity, i.e. in the case of the same optical constants along the whole area of the film: i) If optical constants of the non-uniform film are known, spectral dependencies of the local reflectance are used to determine a map of the local film thickness (one pixel method). ii) If optical constants are unknown, spectral dependencies of these constants are determined using standard spectroscopic ellipsometry and reflectometry under taking into account postulated non-uniformity in thickness (e.g. wedge-shaped non-uniformity) and a suitable dispersion model for optical constants. Then local reflectances are again utilized for determining the local thickness map (the combined method of the onepixel ISR method and the standard methods). Note that the spectra of the local reflectance can also be used for the determination of the map of roughness rms values together with the map of the local thickness if the rough non-uniform thin film is characterized by this combined method. iii) If the situation concerning the optical constants is the same as in ii) one can utilize a simultaneous treatment of the experimental data measured by all the individual CCD pixels without using auxiliary methods. This multi-pixel method enables us to determine simultaneously the spectral dependencies of optical constants and the map of local thickness if a suitable dispersion model of the film is employed. In this contribution examples of the optical characterization of thin films non-uniform in thickness corresponding to all cases i)-iii) will be presented.

Keywords in English

Reflectometry ; Spectroscopy ; Thin films ; Reflectivity ; Optical constants ; CCD cameras ; Sensors ; Spectrophotometry ; Spectroscopic ellipsometry

RIV year

2015

Released

24.09.2015

ISBN

9781628418170

ISSN

0277-786X

Book

Optical Systems Design 2015: Optical Fabrication, Testing, and Metrology V

Number

9628

Pages from–to

0R-1–0R-13

Pages count

13

BIBTEX


@inproceedings{BUT116778,
  author="Miloslav {Ohlídal} and Ivan {Ohlídal} and David {Nečas} and Jiří {Vodák} and Daniel {Franta} and Pavel {Nádaský} and František {Vižďa},
  title="Possibilities and limitations of imaging spectroscopic reflectometry in optical characterization of thin films",
  booktitle="Optical Systems Design 2015: Optical Fabrication, Testing, and Metrology V",
  year="2015",
  number="9628",
  month="September",
  pages="0R-1--0R-13",
  isbn="9781628418170",
  issn="0277-786X"
}