Funkční prototyp elektronového litografu o energii 80 keV

Functional prototype of an electron beam lithograph with beam energies of up to 80 keV

prototype

Funkční prototyp elektronového litografu o energii 80 keV obsahuje: Komora GL na platformě s aktivním odpružením, přesný stolek s vedeními MAHR X,Y,Z (153x153x10 mm) se zerodurovými zrcadly, 2 x interferometrická sada diferenciálních hlavic v přírubách se zdrojem laseru ORION (1530 nm), zakládací systém pro 6" wafery, laserové odměřování v ose Z na bázi micro-epsilon, dvoukondenzorový elektronový tubus se 100 keV tryskou, plovoucí elektronika na 100 keV, HV tank 100 keV na samostatné platformě, chiller, scroll vývěva EDWARDS, a kompresor. Součásti prototypu je také nově vyvinutý speciální software s názvem Stamper pro ovládání HW a správu předloh pro provádění expozic. První testy ověřili funkčnost zařízení a výstupy například mikroskopické obrázky, první testovací litografické struktury aj. byly zpracované ve formě vývojové zprávy.

The functional prototype of an electron lithograph with an energy of 80 keV contains: GL chamber on a platform with active suspension, precise table with MAHR X, Y, Z guides (153x153x10 mm) with zerodur mirrors, 2 x interferometric set of differential heads in flanges with ORIOacN laser source (1530 nm), loading system for 6" wafers, Z-axis laser metering based on micro-epsilon, double-condenser electron-beam column with a 100 keV gun, floating electronics for100 keV, HV tank 100 keV on a stand-alone platform, chiller, EDWARDS scroll pump, and compressor. The prototype also includes newly developed special software called Stamper for HW control and template management for exposures. The first tests verified the functionality of the device and the outputs, e.g., microscopic images, the first test lithographic structures, etc. were summarized in the form of a development report.

31.12.2018

TESCAN Brno s.r.o.