Publication detail

Design of an Ellipsometer For Thin Films and Surface Measurement.

TICHOPÁDEK, P. NEBOJSA, A. ČECHAL, J.

Czech title

Konstrukce elipsometru pro měření tenkých vrstev a povrchů.

English title

Design of an Ellipsometer For Thin Films and Surface Measurement.

Type

journal article - other

Language

cs

Original abstract

Tato práce se zabývá konstrukcí a testováním elipsometrů určených pro in situ monitorování povrchů a tenkých vrstev. Kromě dvouvlného elipsometru je zde prezentována také verze spektroskopická. Provedená měření tloušťky leptaných vrstev SiO2 demonstrují výhody spektroskopické metody.

Czech abstract

Tato práce se zabývá konstrukcí a testováním elipsometrů určených pro in situ monitorování povrchů a tenkých vrstev. Kromě dvouvlného elipsometru je zde prezentována také verze spektroskopická. Provedená měření tloušťky leptaných vrstev SiO2 demonstrují výhody spektroskopické metody.

English abstract

This paper dals with a design and testing of ellipsometers suitable for in situ monitoring of surfaces and thin films. In addition to two-wavelength ellipsometr, a spectroscopic version of the instrument is presented as well. A good performance of the spectroscopic ellipsometer is demonstrated for monitoring thicness of SiO2 films in etching experiments.

Keywords in English

ellipsometry, spectroscopic ellipsometer

RIV year

2001

Released

01.04.2001

ISSN

0447-6441

Journal

Jemná mechanika a optika

Volume

46

Number

4

Pages count

4

BIBTEX


@article{BUT40053,
  author="Petr {Tichopádek} and Alois {Nebojsa} and Jan {Čechal},
  title="Konstrukce elipsometru pro měření tenkých vrstev a povrchů.",
  journal="Jemná mechanika a optika",
  year="2001",
  volume="46",
  number="4",
  month="April",
  issn="0447-6441"
}