Kompletní optická charakterizace neuniformních SiOx tenkých vrstev pomocí zobrazovací spektroskopické reflektometrie

Complete optical characterization of non-uniform SiOx thin films using imaging spectroscopic reflectometry

abstract

en

Complete optical characterization of SiOx films non-uniform in thickness is performed using imaging spectroscopic reflectometry (ISR). It is shown that by using this technique it is possible to determine the area distribution of the local thickness (area map) of these films with arbitrary shape of this thickness non-uniformity. Furthermore, it is shown that the SiOx films studied do not exhibit the area non-uniformity in dispersion (material) parameters and optical constants.

Je provedena kompletní optická charakterizace SiOx tenkých vrstev neuniformních v tloušťce pomocí zobrazovací spektroskopické reflektometrie. Je ukázáno, že pomocí této techniky je možno určit plošné rozložení lokální tloušťky těchto vrstev při libovolném tvaru jejich neuniformity. Dále je ukázáno, že studované vrstvy nevykazují plošnou neuniformitu v disperzních (materiálových) parametrech a optických konstantách.

Complete optical characterization of SiOx films non-uniform in thickness is performed using imaging spectroscopic reflectometry (ISR). It is shown that by using this technique it is possible to determine the area distribution of the local thickness (area map) of these films with arbitrary shape of this thickness non-uniformity. Furthermore, it is shown that the SiOx films studied do not exhibit the area non-uniformity in dispersion (material) parameters and optical constants.

Tenké vrstvy, optické parametry

Thin films, optical parameters

29.06.2008

Trinity College Dublin

Dublin

M-P43–M-P43

1