Publication detail

Application of thermal desorption spectroscopy for surface contamination investigation

POTOČEK, M. BÁBOR, P. ŠIKOLA, T.

Czech title

Využití termální desorpční spektroskopie při studiu povrchové kontaminace

English title

Application of thermal desorption spectroscopy for surface contamination investigation

Type

journal article - other

Language

cs

Original abstract

V článku je popsán teoretický základ termální desorpční spektroskopie a její realizace v laboratoři povrchů a tenkých vrstev. Dále je uvedeno použití této metody při studiu kontaminace Si desek.

Czech abstract

V článku je popsán teoretický základ termální desorpční spektroskopie a její realizace v laboratoři povrchů a tenkých vrstev. Dále je uvedeno použití této metody při studiu kontaminace Si desek.

English abstract

Theoretical basics of thermal desorption spectroscopy and its realization in the Surfaces and Thin Films Laboratory is presented. As an example of application of this method a study of contamination of Si wafer is reported.

Keywords in Czech

Termální desorpční spektroskopie, TDS; desorpce; adsorpce

Keywords in English

Thermal desorption spectroscopy, TDS; desorption; adsorption

RIV year

2009

Released

01.09.2009

ISSN

0447-6441

Journal

Jemná mechanika a optika

Volume

54

Number

7-8

Pages from–to

217–218

Pages count

2

BIBTEX


@article{BUT46796,
  author="Michal {Potoček} and Petr {Bábor} and Tomáš {Šikola},
  title="Využití termální desorpční spektroskopie při studiu povrchové kontaminace",
  journal="Jemná mechanika a optika",
  year="2009",
  volume="54",
  number="7-8",
  month="September",
  pages="217--218",
  issn="0447-6441"
}