Detail publikace

Využití termální desorpční spektroskopie při studiu povrchové kontaminace

POTOČEK, M. BÁBOR, P. ŠIKOLA, T.

Český název

Využití termální desorpční spektroskopie při studiu povrchové kontaminace

Anglický název

Application of thermal desorption spectroscopy for surface contamination investigation

Typ

článek v časopise - ostatní, Jost

Jazyk

cs

Originální abstrakt

V článku je popsán teoretický základ termální desorpční spektroskopie a její realizace v laboratoři povrchů a tenkých vrstev. Dále je uvedeno použití této metody při studiu kontaminace Si desek.

Český abstrakt

V článku je popsán teoretický základ termální desorpční spektroskopie a její realizace v laboratoři povrchů a tenkých vrstev. Dále je uvedeno použití této metody při studiu kontaminace Si desek.

Anglický abstrakt

Theoretical basics of thermal desorption spectroscopy and its realization in the Surfaces and Thin Films Laboratory is presented. As an example of application of this method a study of contamination of Si wafer is reported.

Klíčová slova česky

Termální desorpční spektroskopie, TDS; desorpce; adsorpce

Klíčová slova anglicky

Thermal desorption spectroscopy, TDS; desorption; adsorption

Rok RIV

2009

Vydáno

01.09.2009

ISSN

0447-6441

Časopis

Jemná mechanika a optika

Ročník

54

Číslo

7-8

Strany od–do

217–218

Počet stran

2

BIBTEX


@article{BUT46796,
  author="Michal {Potoček} and Petr {Bábor} and Tomáš {Šikola},
  title="Využití termální desorpční spektroskopie při studiu povrchové kontaminace",
  journal="Jemná mechanika a optika",
  year="2009",
  volume="54",
  number="7-8",
  month="September",
  pages="217--218",
  issn="0447-6441"
}