Publication detail

A Study of Ultrathin Layered Structures

JURKOVIČ, P. ŠIKOLA, T. BÁBOR, P. ČECHAL, J.

Czech title

Studium ultratenkých vrstevnatých struktur

English title

A Study of Ultrathin Layered Structures

Type

conference paper

Language

cs

Original abstract

Článek se zabývá využitím metody AR XPS pro analýzu chemického složení vrstvy přírodního oxidu na substrátech Si. Teorie maximální entropie byla použita při následné rekonstrukci hloubkového profilu vzorku.

Czech abstract

Článek se zabývá využitím metody AR XPS pro analýzu chemického složení vrstvy přírodního oxidu na substrátech Si. Teorie maximální entropie byla použita při následné rekonstrukci hloubkového profilu vzorku.

English abstract

This paper deals with AR XPS method and their application for chemical analysis of natural Silicon dioxide layers on silicon substrates. For reconstruction of concentration depth profiles a maximum entrophy theory was used.

Keywords in English

XPS, multilayers

RIV year

2002

Released

15.11.2001

Publisher

FEI VUT v Brně

Location

Brno

ISBN

80-214-1992-X

Book

Sborník příspěvků konference Nové trendy ve fyzice

Pages count

5

BIBTEX


@inproceedings{BUT6496,
  author="Patrik {Jurkovič} and Tomáš {Šikola} and Petr {Bábor} and Jan {Čechal},
  title="Studium ultratenkých vrstevnatých struktur",
  booktitle="Sborník příspěvků konference Nové trendy ve fyzice",
  year="2001",
  month="November",
  publisher="FEI VUT v Brně",
  address="Brno",
  isbn="80-214-1992-X"
}