Detail publikace

Studium ultratenkých vrstevnatých struktur

JURKOVIČ, P. ŠIKOLA, T. BÁBOR, P. ČECHAL, J.

Český název

Studium ultratenkých vrstevnatých struktur

Anglický název

A Study of Ultrathin Layered Structures

Typ

článek ve sborníku ve WoS nebo Scopus

Jazyk

cs

Originální abstrakt

Článek se zabývá využitím metody AR XPS pro analýzu chemického složení vrstvy přírodního oxidu na substrátech Si. Teorie maximální entropie byla použita při následné rekonstrukci hloubkového profilu vzorku.

Český abstrakt

Článek se zabývá využitím metody AR XPS pro analýzu chemického složení vrstvy přírodního oxidu na substrátech Si. Teorie maximální entropie byla použita při následné rekonstrukci hloubkového profilu vzorku.

Anglický abstrakt

This paper deals with AR XPS method and their application for chemical analysis of natural Silicon dioxide layers on silicon substrates. For reconstruction of concentration depth profiles a maximum entrophy theory was used.

Klíčová slova anglicky

XPS, multilayers

Rok RIV

2002

Vydáno

15.11.2001

Nakladatel

FEI VUT v Brně

Místo

Brno

ISBN

80-214-1992-X

Kniha

Sborník příspěvků konference Nové trendy ve fyzice

Počet stran

5

BIBTEX


@inproceedings{BUT6496,
  author="Patrik {Jurkovič} and Tomáš {Šikola} and Petr {Bábor} and Jan {Čechal},
  title="Studium ultratenkých vrstevnatých struktur",
  booktitle="Sborník příspěvků konference Nové trendy ve fyzice",
  year="2001",
  month="November",
  publisher="FEI VUT v Brně",
  address="Brno",
  isbn="80-214-1992-X"
}