Detail předmětu
Fyzikální principy technologie výroby polovodičů
FSI-TP0 Ak. rok: 2024/2025 Zimní semestr
V kurzu je věnována pozornost jednotlivým krokům při výrobě a zpracování polovodičových materiálů. Pozornost je věnována fyzikálnímu a chemickému popisu jednotlivých procesů
Jazyk výuky
čeština
Počet kreditů
2
Garant předmětu
Zajišťuje ústav
Vstupní znalosti
Fyzika pevných látek, chemie
Pravidla hodnocení a ukončení předmětu
Předmět je ukončen kolokviem a závěrečnou samostatnou prácí
Učební cíle
Hlavním cílem kurzu je využitím přednášek odborníků z praxe umožnit studentům
- vyjmenovat a popsat jednotlivé kroky při výrobě a zpracování polovodičových materiálů
- aplikovat základní znalosti fyziky za účelem fyzikální a chemický popis výrobních postupů
Student získá přehled v oblasti technologií v polovodičovém průmyslu a použitých metodách.
Použití předmětu ve studijních plánech
Program N-FIN-P: Fyzikální inženýrství a nanotechnologie, magisterský navazující, volitelný
Program B-FIN-P: Fyzikální inženýrství a nanotechnologie, bakalářský, volitelný
Typ (způsob) výuky
Přednáška
39 hod., nepovinná
Osnova
– Přehled technologie výroby Si desek
- Růst monokrystalů křemíku
- Defekty v Si
- Analýza povrchů ve výrobě polovodičů
- Dekontaminace a leštění povrchu Si desek
- Přehled postupu výroby integrovaných obvodů
- Oxidace Si desek a difuze příměsí
- Chemické a plazmochemické depozice vrstev z plynné faze
- Fotolitografie vrstev, leptání SiO2
- Plazmochemické leptání vrstev, depozice kovových vrstev
- Aplikace statistických metod v průmyslu