Detail předmětu

Fyzikální principy technologie výroby polovodičů

FSI-TP0 Ak. rok: 2024/2025 Zimní semestr

V kurzu je věnována pozornost jednotlivým krokům při výrobě a zpracování polovodičových materiálů. Pozornost je věnována fyzikálnímu a chemickému popisu jednotlivých procesů

Jazyk výuky

čeština

Počet kreditů

2

Vstupní znalosti

Fyzika pevných látek, chemie

Pravidla hodnocení a ukončení předmětu

Předmět je ukončen kolokviem a závěrečnou samostatnou prácí

Učební cíle

Hlavním cílem kurzu je využitím přednášek odborníků z praxe umožnit studentům
- vyjmenovat a popsat jednotlivé kroky při výrobě a zpracování polovodičových materiálů
- aplikovat základní znalosti fyziky za účelem fyzikální a chemický popis výrobních postupů
Student získá přehled v oblasti technologií v polovodičovém průmyslu a použitých metodách.

Použití předmětu ve studijních plánech

Program N-FIN-P: Fyzikální inženýrství a nanotechnologie, magisterský navazující, volitelný

Program B-FIN-P: Fyzikální inženýrství a nanotechnologie, bakalářský, volitelný

Typ (způsob) výuky

 

Přednáška

39 hod., nepovinná

Osnova

– Přehled technologie výroby Si desek
- Růst monokrystalů křemíku
- Defekty v Si
- Analýza povrchů ve výrobě polovodičů
- Dekontaminace a leštění povrchu Si desek
- Přehled postupu výroby integrovaných obvodů
- Oxidace Si desek a difuze příměsí
- Chemické a plazmochemické depozice vrstev z plynné faze
- Fotolitografie vrstev, leptání SiO2
- Plazmochemické leptání vrstev, depozice kovových vrstev
- Aplikace statistických metod v průmyslu