Hodnocení neuniformních tenkých vrstev pomocí spektroskopické elipsometrie a zobrazovací spektroskopické reflektometrie

Assessment of non_uniform thin films using spectroscopic ellipsometry and imaging spectroscopic reflectometry

článek v časopise ve Web of Science, Jimp

en

Standard variable-angle spectroscopic ellipsometry, mapping spectroscopic ellipsometry with microspot and imaging spectroscopic reflectometry are applied to optical characterisation of a thin SiOxCyHz film considerably non-uniform in thickness and which is also suspected of non-uniformity also in the optical constants. It is shown that using the combination of these three optical methods, enables us to determine the spectral dependencies of the optical constants of the film together with parameters characterising the shape of thickness non-uniformity and fine map of local thickness. The mapping spectroscopic ellipsometry with microspot enables deciding whether the film is non-uniform in optical constants. For the thin film studied it is found that the non-uniformity in optical constants is under experimental accuracy. The consistency of results obtained using individual techniques is checked and the advantages and disadvantages of the techniques are discussed.

Standardní spektroskopická elipsometrie, mapující spektroskopická elipsometrie s mikrostopou a zobrazovací reflektometrie jsou použity pro optickou charakterizaci tenké SiOxCyHz vrstvy výrazně neuniformní v tloušťce a s možnou neuniformitou v optických konstantách. Je ukázáno, že s použitím těchto tří metod lze určit spektrální závislosti optických konstant společně s parametry, které charakterizují tvar neuniformity v tloušťce a přesnou mapu lokálních tlouštěk. Mapující spektroskopická elipsometrie s mikrostopou umožňuje rozhodnout, zda je vrstva neuniformní v optických konstantách. Pro studovanou vrstvu je zjištěno, že neuniformita v optických konstantách je menší než experimentální přesnost. Je zkoumána konzistence výsledků získaných jednotlivými technikami a jsou diskutovány výhody a nevýhody těchto technik.

Standard variable-angle spectroscopic ellipsometry, mapping spectroscopic ellipsometry with microspot and imaging spectroscopic reflectometry are applied to optical characterisation of a thin SiOxCyHz film considerably non-uniform in thickness and which is also suspected of non-uniformity also in the optical constants. It is shown that using the combination of these three optical methods, enables us to determine the spectral dependencies of the optical constants of the film together with parameters characterising the shape of thickness non-uniformity and fine map of local thickness. The mapping spectroscopic ellipsometry with microspot enables deciding whether the film is non-uniform in optical constants. For the thin film studied it is found that the non-uniformity in optical constants is under experimental accuracy. The consistency of results obtained using individual techniques is checked and the advantages and disadvantages of the techniques are discussed.

Spektroskopická elipsometrie s proměnným úhlem dopadu, mapující spektroskopická elipsometrie, zobrazovací spektroskopická reflektometrie, neuniformní tenké vrstvy.

Variable-angle spectroscopic ellipsometry, Mapping spectroscopic ellipsometry, Imaging spectroscopic reflectometry, Non-uniform thin films

2014

28.11.2014

Elsevier B.V.

0040-6090

571

3

573–578

6