Detail publikace

OISF pattern and grown-in precipitates in heavily boron doped silicon

VÁLEK, L. LYSÁČEK, D. ŠIK, J.

Anglický název

OISF pattern and grown-in precipitates in heavily boron doped silicon

Typ

článek v časopise - ostatní, Jost

Jazyk

en

Vydáno

21.04.2007

ISSN

0013-4651

Časopis

JOURNAL OF THE ELECTROCHEMICAL SOCIETY

Ročník

154

Číslo

10

Strany od–do

904–909

BIBTEX


@article{BUT50290,
  author="Lukáš {Válek} and David {Lysáček} and Jan {Šik},
  title="OISF pattern and grown-in precipitates in heavily boron doped silicon",
  journal="JOURNAL OF THE ELECTROCHEMICAL SOCIETY",
  year="2007",
  volume="154",
  number="10",
  month="April",
  pages="904--909",
  issn="0013-4651"
}