Detail publikace

Depozice a in situ charakterizace ultra-tenkých vrstev

VOBORNÝ, S. KOLÍBAL, M. MACH, J. ČECHAL, J. BÁBOR, P. PRŮŠA, S. SPOUSTA, J. ŠIKOLA, T.

Český název

Depozice a in situ charakterizace ultra-tenkých vrstev

Anglický název

Deposition and in situ characterization of ultra-thin films

Typ

článek ve sborníku ve WoS nebo Scopus

Jazyk

en

Originální abstrakt

Deposition of ultra-thin GaN layers and their analysis using XPS, SIMS, TOF-LEIS.

Český abstrakt

Depozice ultratenkých vrstev GaN a jejich analýza užitím XPS, SIMS, TOF-LEIS.

Anglický abstrakt

Deposition of ultra-thin GaN layers and their analysis using XPS, SIMS, TOF-LEIS.

Klíčová slova anglicky

GaN, XPS, thin films

Rok RIV

2003

Vydáno

23.06.2003

Nakladatel

EVC

Místo

Berlin

Kniha

EVC'03 Abstracts

Počet stran

2

BIBTEX


@inproceedings{BUT11053,
  author="Stanislav {Voborný} and Miroslav {Kolíbal} and Jindřich {Mach} and Jan {Čechal} and Petr {Bábor} and Stanislav {Průša} and Jiří {Spousta} and Tomáš {Šikola},
  title="Deposition and in situ characterization of ultra-thin films",
  booktitle="EVC'03 Abstracts",
  year="2003",
  month="June",
  publisher="EVC",
  address="Berlin"
}