Detail publikace

Ablace dielektrik pomocí XUV laserového záření na vlnové délce 46,9 nm

RITUCCI, A. –TOMASSETTI, G. –REALE, A. –ARIZZA, L. –ZUPELLA, P. –REALE, L. –PALLADINO, L.–FLORA, F. –BONFIGLI, E. –FAENOV, A. –PIKUZ, T. –KAISER, J. –NILSEN, J. –JANKOWSKI, A.F.

Český název

Ablace dielektrik pomocí XUV laserového záření na vlnové délce 46,9 nm

Anglický název

Damage and ablation of large bandgap dielectrics induced by a 46.9 nm laser beam

Typ

článek v časopise - ostatní, Jost

Jazyk

en

Originální abstrakt

We applied a 0.3 mJ, 1.7 ns, 46.9 nm soft X-ray argon laser to ablate the surface of large bandgap dielectrics:CaF2 and LiF crystals.

Český abstrakt

Ablace dielektrik pomocí XUV laserového záření na vlnové délce 46,9 nm

Anglický abstrakt

We applied a 0.3 mJ, 1.7 ns, 46.9 nm soft X-ray argon laser to ablate the surface of large bandgap dielectrics:CaF2 and LiF crystals.

Klíčová slova anglicky

46.9 nm soft X-ray laser, laser ablation

Rok RIV

2006

Vydáno

01.01.2006

ISSN

0146-9592

Časopis

OPTICS LETTERS

Ročník

31

Číslo

1

Počet stran

3

BIBTEX


@article{BUT42576,
  author="Jozef {Kaiser},
  title="Damage and ablation of large bandgap dielectrics induced by a 46.9 nm laser beam",
  journal="OPTICS LETTERS",
  year="2006",
  volume="31",
  number="1",
  month="January",
  issn="0146-9592"
}