Detail publikace
Vytváření křemíékových a germaniových nanostruktur pomocí nízkoenergiového fokusovaného iontového svazku.
KOLÍBAL, M. MATLOCHA, T. VYSTAVĚL, T. ŠIKOLA, T.
Český název
Vytváření křemíékových a germaniových nanostruktur pomocí nízkoenergiového fokusovaného iontového svazku.
Anglický název
Low energy focused ion beam milling of silicon and germanium nanostructures
Typ
článek v časopise - ostatní, Jost
Jazyk
en
Originální abstrakt
In this paper focused ion beam milling of very shallow nanostructures in silicon and germanium by low energy Ga+ ions is studied with respect to ion beam and scanning parameters. It has been found that, using low energy ions, many scanning artefacts can be avoided and, additionally, some physical effects (e.g. redeposition and ion channelling) are significantly suppressed. The structures milled with low energy ions suffer less subsurface ion beam damage (amorphization, formation of voids) and are thus more suitable for selected applications in nanotechnology.
Český abstrakt
Článek se zabývá vytvářením křemíékových a germaniových nanostruktur pomocí nízkoenergiového fokusovaného iontového svazku. Jako nejvhodnější se ukazuje použité svazku o nízkých energiích.
Anglický abstrakt
In this paper focused ion beam milling of very shallow nanostructures in silicon and germanium by low energy Ga+ ions is studied with respect to ion beam and scanning parameters. It has been found that, using low energy ions, many scanning artefacts can be avoided and, additionally, some physical effects (e.g. redeposition and ion channelling) are significantly suppressed. The structures milled with low energy ions suffer less subsurface ion beam damage (amorphization, formation of voids) and are thus more suitable for selected applications in nanotechnology.
Klíčová slova česky
FIB; SI; Ge
Klíčová slova anglicky
FIB milling; Si; Ge
Rok RIV
2011
Vydáno
02.02.2011
ISSN
0957-4484
Časopis
NANOTECHNOLOGY
Ročník
22
Číslo
10
Strany od–do
105304-1–105304-8
Počet stran
8
BIBTEX
@article{BUT50636,
author="Miroslav {Kolíbal} and Tomáš {Matlocha} and Tomáš {Vystavěl} and Tomáš {Šikola},
title="Low energy focused ion beam milling of silicon and germanium nanostructures",
journal="NANOTECHNOLOGY",
year="2011",
volume="22",
number="10",
month="February",
pages="105304-1--105304-8",
issn="0957-4484"
}